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Centre de Strasbourg
2 allée des Foulons
67380 Lingolsheim

Équipe de recherche

Ingénierie et Outils numériques

Thèmes de recherche

  • Industrie du futur.
  • Matériaux et procédés : micro/nano-technologie, fabrication additive, traitements de surface, nanomatériaux, composites, verres, matériaux métalliques.

Activités pédagogiques

  • Enseignement en sciences physiques, de l’ingénieur et des matériaux.
  • Enseignement selon la pédagogie classique et active (par projet et par problème).
  • Pilotage et suivi des cycles préparatoires intégrés.
  • Instructeur en pédagogies actives.

Formation

  • Doctorat
    Grenoble INP , 2007
    Energétique-Physique, option Matériaux
  • Master 2
    Grenoble INP , 2003
    Energétique-Physique, option Matériaux.

Encadrement et animation scientifique

Encadrement des stagiaires : M2, L3, 2ème année BUT, 2ème année cycle d’ingénieur.
Reviewer pour Surface and Coatings Technology journal.

Publications

  • Synthèse (7 année d’activité)
    8 ACL
    1 C-ACTI
    9 C-COM
    4 C-AFF

Publications sélectionnées

  • A. Hodroj et al.- Nanocrystalline diamond coatings: Effects of time modulation bias enhanced HFCVD parameters.- AIMS Materials Science, vol. 5, n°3, 2018, pp. 519-532. doi: 10.3934/matersci.2018.3.519
    S. Kassavetis, A. Hodroj et al.- Optical and electronic properties of conductive ternary nitrides with rare or alkaline earth elements.- Journal of Applied Physics, vol. 120, n°22, 2016, pp. 225106(1)- 225106(10). https://doi.org/10.1063/1.4971407
    A. Hodroj et al.- Phase separation and special morphology in sodium silicate glasses analyzed by atomic force microscopy, light scattering and nuclear magnetic resonance.- Journal of the American Ceramic Society, vol. 96, n°8, 2013, pp.2454- 2460. https://doi.org/10.1111/jace.12459
    A. Hodroj et al.- Development of novel titanium nitride-based decorative coatings by calcium addition.- Applied Surface Science, vol. 257, n°20, 2011, pp. 8525-8528. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2011.04.144
    A. Hodroj et al. – Growth of amorphous Ti-Si-O thin films by aerosol chemical vapor deposition process at atmospheric pressure.- Journal of the Electrochemical Society, vol. 155, n° 2, 2008, pp.D110-114. https://iopscience.iop.org/article/10.1149/1.2806790